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測量技術(shù)與儀器發(fā)展趨勢

更新時間:2008-10-17  |  點擊率:3126

測量技術(shù)與儀器發(fā)展趨勢
 
    測量技術(shù)與儀器涉及所有物理量的測量,對于材料、工程科學、能源科學關(guān)系密切。目前的發(fā)展趨勢有以下幾點:  

  (1)以自然基準溯源和傳遞,同時在不同量程實現(xiàn)比對。如果自己沒有能力比對就要依靠其它國家。  

  (2)高精度。目前半導體工藝的典型線寬為0.25μm,并正向0.18μm過渡,2009年的預(yù)測線寬是0.07μm。如果定位要求占線寬的1/3,那么就要求10nm量級的精度,而且晶片尺寸還在增大,達到300mm。這就意味著測量定位系統(tǒng)的精度要優(yōu)于3×10的-8次方,相應(yīng)的激光穩(wěn)頻精度應(yīng)該是10的-9次方數(shù)量級。  

  (3)高速度。目前加工機械的速度已經(jīng)提高到1m/sec以上,上世紀80年代以前開發(fā)研制的儀器已不適應(yīng)市場的需求。例如惠普公司的干涉儀市場大部分被英國Renishaw所占領(lǐng),其原因是后者的速度達到了1m/sec。  

  (4)高靈敏,高分辨,小型化。如將光譜儀集成到一塊電路板上。  

  (5)標準化。通訊接口過去常用GPIB,RS232,目前有可能成為替代物的高性能標準是USB、IEEE1394和VXI?,F(xiàn)在,技術(shù)者設(shè)法控制技術(shù)標準,參與標準制訂是儀器開發(fā)的基礎(chǔ)研究工作之一。  

  我國儀器科技的發(fā)展現(xiàn)狀  

  (1)由于長期習慣于仿制國外產(chǎn)品,我國的儀器儀表工業(yè)缺乏創(chuàng)新能力,跟不上科學研究和工程建設(shè)的需要。  

  (2)我國儀器科學與技術(shù)研究領(lǐng)域積累了大量科研成果,許多成果處于水平,有待篩選、提高和轉(zhuǎn)化,但產(chǎn)業(yè)化程度很低,沒有形成具有競爭力的完整產(chǎn)業(yè)。  

  未來發(fā)展趨勢  

  1.發(fā)展方向與學科前沿  

  (1)配合數(shù)控設(shè)備的技術(shù)創(chuàng)新(如主軸速度,精度創(chuàng)成)  

  數(shù)控設(shè)備的主要誤差來源可分為幾何誤差(共有21項)和熱誤差。對于重復(fù)出現(xiàn)的系統(tǒng)誤差,可采用軟件修正;對于隨機誤差較大的情況,要采用實時修正方法。對于熱誤差,一般要通過溫度測量進行修正。我國機床行業(yè)市場萎縮同時又大量進口國外設(shè)備的原因之一就是因為這方面的技術(shù)沒有得到推廣應(yīng)用。為此,需要高速多通道激光干涉儀:其測量速度達60m/min以上,采樣速度達5000次/sec以上,以適應(yīng)熱誤差和幾何誤差測量的需要。空氣折射率實時測量應(yīng)達到2×10的-7次方水平,其測量結(jié)果和長度測量結(jié)果可同步輸入計算機。  

  (2)運行和制造過程的監(jiān)控和在線檢測技術(shù)  

  綜合運用圖像、頻譜、光譜、光纖以及其它光與物質(zhì)相互作用原理的傳感器具有非接觸、高靈敏度、高柔性、應(yīng)用范圍廣的優(yōu)點。在這個領(lǐng)域綜合創(chuàng)新的天地十分廣闊,如振動、粗糙度、污染物、含水量、加工尺寸及相互位置等。  

  (3)配合信息產(chǎn)業(yè)和生產(chǎn)科學的技術(shù)創(chuàng)新  

  為了在開放環(huán)境下求得生存空間,沒有自主創(chuàng)新技術(shù)是沒有出路的。因此應(yīng)該根據(jù)有權(quán)、有技術(shù)含量、有市場等原則選擇一些項目予以支持。根據(jù)當前發(fā)展現(xiàn)狀,信息、生命醫(yī)學、環(huán)保、農(nóng)業(yè)等領(lǐng)域需要的產(chǎn)品應(yīng)給予優(yōu)先支持。如醫(yī)學中介入治療的精密儀器設(shè)備、電子工業(yè)中的超分辨光刻和清潔方法和機理研究等。  

  2.優(yōu)先領(lǐng)域  

  在基礎(chǔ)研究的初期,對于能否有突破性進展是很難預(yù)測的。但是,當已經(jīng)取得突破性進展時,則需要有一個轉(zhuǎn)化機制以進入市場。  

  (1)納米溯源技術(shù)和系統(tǒng)。  

  (2)介入安裝和制造的坐標跟蹤測量系統(tǒng)。  

  關(guān)鍵理論和技術(shù):超半球反射器(n=2或在機構(gòu)上創(chuàng)新),快速、多路干涉儀(頻差3~5兆),二維精密跟蹤測角系統(tǒng)(0.2″~0.5″),通用信號處理系統(tǒng)(工作頻率5兆),無導軌半導體激光測量系統(tǒng)(分辨率1μm),熱變形仿真,力變形仿真。  

  這些內(nèi)容不局限于一種技術(shù)方案,而是幾種不同技術(shù)方案中概括出來的共同點。如采用無導軌干涉儀,對跟蹤系統(tǒng)的要求可以降低;采用二維精密跟蹤測角系統(tǒng)在1M3測量范圍內(nèi)可以得到高精度;有了超半球反射鏡可以提高4路跟蹤方案的精度。在現(xiàn)場進行介入制造和裝配不能等待很長時間,力和熱變形的補償是必須的而且需要足夠快,現(xiàn)在的技術(shù)還有相當大的差距,所以這些進展是關(guān)鍵性的。  

  應(yīng)用范圍:新型并行機構(gòu)機床的鑒定,飛機裝配型架的鑒定,大型設(shè)備安裝,用于生物芯片精密機器人校準等。  

  (3)非接觸測頭以及各種掃描探針顯微鏡  

  航空航天行業(yè)對此已經(jīng)提出迫切要求,這是今后坐標測量機發(fā)展的關(guān)鍵技術(shù)。目前接觸式測頭已*被國外所壟斷,非接觸測頭還沒有發(fā)展成熟,我們有參與競爭的機遇。以前較多采用的激光三角法原理受到很多限制,難以有突破性進展,但可在原理創(chuàng)新上下功夫。應(yīng)該突破0.1~0.5μm分辨率。  

  (4)計算機輔助測量理論  

  信號處理系統(tǒng)的標準化、模塊化、兼容和集成。例如,目前多數(shù)采用ISA總線、IEEE488口,今后計算機可能取消ISA總線,用于筆記本電腦的USB接口將廣泛應(yīng)用。過去,我國生產(chǎn)的儀器滿足于數(shù)字顯示,沒有數(shù)據(jù)交換接口,難以進入市場。國外生產(chǎn)的儀器普遍配備IEEE488(GPIB)口。RS232:目前有可能成為替代物的高性能標準是USB、IEEE1394和VXI。在此轉(zhuǎn)折期為我們提供了機遇。目前虛擬儀器的工作頻段在千赫數(shù)量級,對于干涉信號處理顯得太低,可以采取聯(lián)合互補的方法形成模塊系列,同時降低成本,從總體上提高研發(fā)工作的效率。根據(jù)已有基礎(chǔ),發(fā)展特長,有利于克服重復(fù)研究。  

  (5)新器件,新材料  

  過去,科研評價體系存在偏重于整機和系統(tǒng),忽視材料和器件的趨向。新的突破點可能出現(xiàn)在新光源、新型高頻探測器。目前探測器的響應(yīng)頻率只有10的9次方,而光頻高達10的14次方,目前干涉儀實際上是起著混頻器的作用,適應(yīng)探測器的不足(如果探測器的響應(yīng)果真能超過光頻,干涉儀也就沒有用了)。如果探測器的性能得到顯著提高,對于通訊也是很大的突破。  

  (6)半導體激光器計量特性的研究和創(chuàng)新  

  半導體激光器用于計量需要解決很多問題(如線寬、定標、變頻等)。但如果解決了諸多問題以后,半導體激光系統(tǒng)比氣體激光系統(tǒng)更復(fù)雜,就不會有競爭力。有些問題在物理層面上也沒有完*。例如半導體激光器如果能形成雙頻,無疑是一種十分重要的特性,如果既能掃頻又有兩個相近的頻率掃描,就會成為一種新的無導軌測量工具。  
 

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